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鋼結(jié)構(gòu)拋丸機操作的關(guān)鍵是盡量獲得較高的拋光率，以便在拋光過程中快速去除受損層。此外，拋光受損層不會影響終研究的排列，即不會構(gòu)成錯誤排列。前者需要使用粗磨料以保證高拋光速率來去除拋光的損傷層，但拋光的損傷層也很深；后者需要使用精細數(shù)據(jù)使損傷層變淺，但拋光率低。
解決這個矛盾的辦法是把打磨分成兩個時期。粗拋光的意圖是去除拋光的損傷層，在此期間應該有較高的拋光率。粗糙拋光造成的表面損傷是不必要的考慮，但應該盡量小。其次，精拋光(或終拋光)意在去除粗拋光造成的表面損傷，將拋光損傷降至低。用拋光機拋光時，樣品的研磨面應與拋光盤平行，并輕壓在拋光盤上均勻，以免樣品因壓力過大而飛出和產(chǎn)生新的研磨痕跡。同時樣品要沿轉(zhuǎn)盤移動的半徑方向來回旋轉(zhuǎn)移動，防止拋光布磨損過快。在拋光過程中，要不斷加入微粉懸浮液，使拋光織物保持一定的濕度。濕度過大會削弱拋光的研磨效果，使試樣中的硬質(zhì)相出現(xiàn)浮雕，鋼中的非金屬夾雜物和鑄鐵中的石墨相出現(xiàn)“拖尾”。濕度過小，樣品溫度升高，潤滑效果降低，研磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑點，輕合金也就丟掉了外觀。為了達到粗拋光的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速低，不超過600轉(zhuǎn)/分；拋光時間應該比去除劃痕所需的時間長，因為必須去除變形層。粗拋光后，研磨面潤滑，但無光澤，顯微鏡下有均勻細致的磨痕，需精拋光消除。
精拋光時，轉(zhuǎn)盤的速度可以適當提高，拋光時扔掉粗拋光的破損層為宜。拋光后，拋光面光亮如鏡。在顯微鏡的明視野下看不到劃痕，但在相差照明下仍能看到劃痕。拋光機的拋光質(zhì)量嚴重影響樣品的排列和結(jié)構(gòu)，這已逐漸引起有關(guān)專家的重視。國內(nèi)外對拋光機的性能做了大量的研究工作，開發(fā)了許多新機型和新一代拋光設(shè)備，正從手工操作向各種半自動和全自動拋光機轉(zhuǎn)變。

青島坤鈺漢霖生產(chǎn)的拋丸清理機有：網(wǎng)帶通過式拋丸機、輥道通過式拋丸機、吊鉤式拋丸機、履帶式拋丸機、轉(zhuǎn)臺式拋丸機、懸鏈通過式拋丸機、鋼管拋丸機、移動式拋丸機、油管噴砂除銹機等等。噴砂房主要有：噴砂室、集裝箱噴砂房、可伸縮噴砂房、工業(yè)噴砂室等等。拋丸機配件主要有：拋丸器葉輪葉片、鋼砂、拋丸器護板、拋丸機橡膠履帶等等。

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在整個樹脂砂生產(chǎn)線中，我們采用二次再生、一次磁選、連續(xù)混砂的工藝流程對舊砂進行再生。根據(jù)生產(chǎn)經(jīng)驗，澆注后的樹脂砂具有良好的潰散性，因此該線采用人工落砂，砂和小砂塊由磁選皮帶機送至多功能振動回收機進行一次回收。通過diyi級振動回收機的振動破碎和砂塊之間的摩擦，將砂塊破碎成砂粒，然后由斗式提升機提升進入第二級圓盤回轉(zhuǎn)回收機。砂在再生器中以960 rpm摩擦，然后進行剝離和微粉去除。二次再生舊砂經(jīng)風選機二次除塵分離后，由引風機吸走，使舊砂滿足鑄造工藝要求。

二次再生后，舊砂再次被斗式提升機提升，然后卸入砂倉儲存；砂倉中的舊砂通過砂定量裝置進行定量，然后輸送到雙臂連續(xù)樹脂砂混砂機進行造型。砂處理系統(tǒng)配有多功能振動再生和離心再生。將兩種不同類型的再生結(jié)合起來，可以實現(xiàn)優(yōu)勢互補，充分發(fā)揮設(shè)備性能，獲得高質(zhì)量的再生砂。上述整套樹脂砂生產(chǎn)線布局緊湊，設(shè)計合理，再生砂能滿足工藝和設(shè)計要求。

為了充分去除舊砂中的粉塵，生產(chǎn)線采用兩級除塵系統(tǒng)，在每個粉塵點設(shè)置除塵口。粉塵被收集在旋風分離器中進行統(tǒng)一處理，然后凈化后的氣體通過布袋過濾排入大氣。

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